E-Beam- und Ionenstrahl-Anwendungen
Elektronenstrahl-Technologie (E-Beam) wird häufig in Direct-Write-Lithografiesystemen eingesetzt. Eine oder mehrere E-Beam-Säulen schreiben ultrafeine Muster direkt auf ein Retikel oder einen Wafer. Das ermöglicht hochauflösende Strukturierung ohne Masken. E-Beams kommen auch in fortgeschrittener Mikroskopie und Messtechnik zum Einsatz, um Retikel, Wafer und andere kritische Teile mit Nanometergenauigkeit zu prüfen und zu vermessen.
Ionenstrahlsysteme dienen der Materialanalyse und -bearbeitung auf atomarer Ebene. Zu den Anwendungen zählen Bildgebung, Fräsen, Abscheidung und Schaltungsbearbeitung. Diese Technologien sind sowohl in F&E als auch in der Großserienfertigung von Halbleitern unverzichtbar. In diesen Maschinen sind die Umgebungsbedingungen extrem anspruchsvoll: Ultrahochvakuum, Temperaturstabilität und Schwingungskontrolle sind entscheidend für Prozessstabilität und Wiederholgenauigkeit.
Die Werkstoffauswahl spielt daher eine Schlüsselrolle. Komponenten dürfen den Strahl oder den Prozess nicht stören. Häufig sind nicht-magnetische Werkstoffe erforderlich, da Magnetfelder einen E-Beam ablenken und die Positioniergenauigkeit auf Retikel oder Wafer beeinträchtigen können. Ausgasungsarme Werkstoffe sind entscheidend, um die Vakuumqualität zu erhalten und Kontamination zu vermeiden. NBK bietet nicht-magnetische und korrosionsbeständige Verbindungselemente, vakuumtaugliche Schrauben mit Entlüftungsbohrung, ausgasungsarme Werkstoffe und Oberflächenbehandlungen, spielfreie Kupplungen für präzise Drehmomentübertragung sowie Edelstahl- und Sonderwerkstoff-Komponenten für den Reinraum.
